真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度,使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能,從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華,并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下的高速運(yùn)動(dòng)轟擊作為陰極的靶,使靶材中的原子或分子逸出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法,其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,造價(jià)低廉,操作方便;缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對(duì)被轟擊材料加熱,電子束的動(dòng)能變成熱能,使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源,但由于大功率激光器的造價(jià)很高,目前只能在少數(shù)研究性實(shí)驗(yàn)室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?!盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶),使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài),常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子,離子或中性粒子,因?yàn)殡x子在電場(chǎng)下易于加速獲得所需要?jiǎng)幽?,因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過(guò)程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上,即濺射離子都來(lái)源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電;三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電;射頻濺射是利用射頻輝光放電;磁控濺射是利用環(huán)狀磁場(chǎng)控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比,有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射,尤其是高熔點(diǎn),低蒸氣壓的元素和化合物;濺射膜與基板之間的附著性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點(diǎn)是設(shè)備比較復(fù)雜,需要高壓裝置。此外,將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合,即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力,有較高的沉積速率,膜的密度高。
pe鍍鋁膜與pet鍍鋁膜旳區(qū)別
PE鍍鋁膜是聚乙烯薄膜鍍鋁而成;PET鍍鋁膜是聚酯薄膜鍍鋁而成;二者材質(zhì)不同,PE膜偏軟,耐溫性差,便宜;PET膜偏硬,耐溫性好,價(jià)格要貴一些;在光澤度上,PE膜不如PET膜透明,光亮;由于以上諸多不同,PE鍍鋁膜和PET鍍鋁膜用途不一樣,PE鍍鋁膜一般用作內(nèi)襯、防潮包裝材料,PET鍍鋁膜一般用作外包裝材料。
鍍鋁膜表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射,既延長(zhǎng)了內(nèi)容物的保質(zhì)期,又提高了薄膜的亮度,從一定程度上代替了鋁箔,也具有價(jià)廉、美觀及較好的阻隔性能,目前主要應(yīng)用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)l藥、化妝品的外包裝上。
鍍鋁膜是采用特殊工藝在塑料薄膜表面鍍上一層極薄的金屬鋁而形成的一種復(fù)合軟包裝材料,其中常用的加工方法當(dāng)數(shù)真空鍍鋁法,就是在高真空狀態(tài)下通過(guò)高溫將金屬鋁融化蒸發(fā),使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上,從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤。由于它既具有塑料薄膜的特性,又具有金屬的特性,是一種廉價(jià)美觀、性能優(yōu)良、實(shí)用性強(qiáng)的包裝材料具有亮麗的金屬光澤度、優(yōu)異的氣體和光線阻隔性以及良好的防潮、耐熱、耐穿刺性能。
主要特性:PET鍍鋁薄膜是采用高真空蒸鍍技術(shù)而成,對(duì)印刷、包裝、復(fù)合具有優(yōu)良的適應(yīng)性。經(jīng)過(guò)涂布機(jī)上色后,成為PET彩膜,本品被廣泛用于包裝,印刷,復(fù)合等
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